大色综合色综合网站-大色综合色综合资源站-大香萑75久久精品免费-大香萑成人网免费视频-大香交伊人-大香人蕉免费视频75

進口ALD設備原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續以及無孔的特性，可以提供優異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。進口ALD設備特點：占地面積小計算機控制，Labview軟件全自動工藝控制360A厚的...

兆聲清洗機是以高頻(850kHz)振效應并結合化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗為原理的清洗設備。兆聲清洗機不僅保存了超聲波清洗的優點，而且克服了它的不足。在清洗時，由換能器發出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。兆聲清洗機操作規程：1、遵守鑄造設備通用操作規程。2、工作前...

ICP刻蝕機是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介質材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。ICP刻蝕機主要特點：基于PC控制的立柜式百級ICP-RIE刻蝕系統，擁有快速的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅動，自動記錄數據；觸摸屏監控；全自動系統，帶安全聯...

微波等離子化學氣相沉積系統能夠沉積高質量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到z大可達6”直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。并可以支持加熱和循環冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統的平面中空陰極等離子源使得系統可以滿足廣大范圍的要求，無...

金屬有機化學氣相沉積系統是納米制造領域的一項著名技術，在大規模集成電路、絕緣材料、磁性材料、光電子材料領域有著*的重要地位。通過利用氣相間的反應，它能將蒸發的反應物沉積在表面形成薄膜，比如說石墨烯就是CVD廣為認知的產物，但目前看來，制備薄膜半導體材料也是它受重視的應用之一。金屬有機化學氣相沉積系統的原理：CVD的研究始于十九世紀末，主要用于重要材料的合成和制備。若想知道CVD是如何制造特定薄膜的，那就得先了解它的原理。CVD屬于“自下而上”的納米制造技術，其原理是把含有構成...

光學鍍膜系統是在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統的設計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學薄膜的光學性質。當一束單色平面波入射到光學薄膜上時，在它的兩個表面上發生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定...

空間環境模擬試驗設備，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統z通常的應用之一是太空模擬。空間環境模擬試驗設備腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度...

熱真空試驗箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質而設計的，工作時可使工作室內保持一定的真空度，并能夠向內部充入惰性氣體，特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥，采用智能型數字溫度調節儀進行溫度的設定、顯示與控制。熱真空試驗箱外殼由鋼板沖壓折制、焊接成型，外殼表面采用高強度的靜電噴塑涂裝處理，漆膜光滑牢固。工作室采用碳鋼板或不銹鋼板折制焊接而成，工作室與外殼之間填充保溫棉。工作室的內部放有試品擱板，用來放置各種試驗物品，工作室外壁的四周裝有云母加熱器。門封條采用硅橡膠條密封，...